3、光爆層控制，光面爆破一定要控制周邊眼間距E和最小抵抗線W（光爆層厚度），一般W=(1.1~1.25)E，并要求內(nèi)圈眼與周邊眼平行或近似平行。建議E控制在50CM以內(nèi)。