擬建工程位于XXX。項(xiàng)目占地面積約為77837 平方米，地上建筑面積約為38919平方米，地下建筑面積約為25008平米，擬建項(xiàng)目共1座藝術(shù)中心（1F~2F）、1 座酒店（2F~4F）、7 幢藝術(shù)家工作室（1F）及1 座活動(dòng)室（1F）。
2、基坑概況
現(xiàn)基坑支護(hù)范圍為一期，即藝術(shù)中心。本工程±0.000為1985國家高程基準(zhǔn)3.500m，場地標(biāo)高東高西低，根據(jù)地形圖及現(xiàn)場情況，基坑支護(hù)時(shí)取2個(gè)整平標(biāo)高：近西側(cè)陽澄環(huán)路及北側(cè)標(biāo)高為85高程3.500m即相對高程0.00m，其他兩側(cè)標(biāo)高為85高程2.500m即相對高程-1.00m。以下部分除特別注明外均為相對高程。板面標(biāo)高見平面圖，板厚0.55m，墊層0.15m；承臺厚1.00m，基坑挖深（按承臺底考慮）5.55~6.95m，集水坑最大超挖1.40m，電梯坑中坑超挖1.30m，貨梯坑中坑最大超挖1.70m。基坑開挖內(nèi)邊線為地下室外墻線外擴(kuò)1.0m，基坑周長約為386m，基坑開挖面積約7444m2。
§1 工程概況 1
§1.1 一般概況 1
§1.2結(jié)構(gòu)基坑概況 1
§1.3 周邊環(huán)境概況 1
§1.4 工程地質(zhì)概況 2
§1.5 基坑側(cè)壁安全等級 3
§2 支護(hù)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)方案分析 3
§2.1設(shè)計(jì)依據(jù) 3
§2.2 設(shè)計(jì)方案分析 4
§3 支護(hù)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)型式 5
§4 基坑降水 5
§4.1基坑降水分析 5
§4.2降水方案 5
§4.3集水明排措施 5
§4.4止水帷幕措施 5
§5施工準(zhǔn)備 5
§6 支護(hù)結(jié)構(gòu)施工要求 5
§6.1放坡施工要求 5
§6.2土釘墻及掛網(wǎng)噴射混凝土施工要求 6
§6.3鉆孔土釘注漿施工要求 6
§6.4豎向鋼管注漿施工要求 6
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