XX地震遺址紀(jì)念館位于XX鎮(zhèn)，建筑面積2998.99平方米，地下結(jié)構(gòu)二層，地上結(jié)構(gòu)一層，建筑高度4.25米，結(jié)構(gòu)體系為剪力墻-密柱筒-懸掛結(jié)構(gòu)，基礎(chǔ)采用天然筏形基礎(chǔ)。
本工程基坑地下水位高，地下水位-2.0米，基坑深度深，局部達(dá)到-13.1米，降水深度達(dá)11.6米。
本基坑降水施工條件復(fù)雜，具體為：
1、基坑緊臨巴曲河，土質(zhì)為卵石層，滲透系數(shù)大，且該地區(qū)沒有深基坑降水施工的前例，滲透系數(shù)為經(jīng)驗(yàn)值。
2、基坑緊臨橋墩及紀(jì)念遺址，距橋墩外邊3.5米，距遺址最近處僅3米，降低地下水易引起地面沉降及周邊建筑物傾斜開裂，因此需確保降水期間橋梁及遺址安全。
3、XX地區(qū)市電供應(yīng)不足，電壓不穩(wěn)且經(jīng)常停電。
4、地下室施工期間需要度過雨季，河道豐水期，基坑降水難度大。