襯底溫度對MoCVD法沉積ZnO透明導電薄膜的影響
  • 資料等級:
  • 授權方式:資料共享
  • v發(fā)布時間:2011-07-28 02:34:40
  • 資料類型:RAR
  • 資料大。692 KB
  • 資料分類:土木節(jié)能
  • 運行環(huán)境:WinXp,Win2003,WinVista,Win ;
  • 解壓密碼:civilcn.com
研究了襯底溫度對MOCVD技術制備的ZnO薄膜的微觀結構和光電特性影響.XRD和SEM的研究結果表明,襯底溫度對ZnO薄膜的微觀結構有顯著影響,明顯的形貌轉變溫度大約發(fā)生在175 6C,低于175。C,薄膜呈鏡面結構,晶粒為球狀,高于177℃的較高溫度范圍,薄膜從“類金字塔”狀的絨面結構演化為“巖石”狀顯微組織;隨著溫度增加,薄膜的晶粒尺寸明顯增大.絨面結構的未摻雜ZnO薄膜具有17.96 em2,V·8的高遷移率和3.28×10。2 Q·cm的低電阻率,對ZnO薄膜的進一步摻雜和結構優(yōu)化有望應用于si薄膜太陽電池的前電極.
立即下載土木工程網(wǎng)提醒您:本資料下載權限為(普通會員)