工程概況
場(chǎng)地位于xx市xx區(qū)東坑村南西側(cè)、光明大道與二十三號(hào)路相交的西北角,西側(cè)與xxxx有限公司毗鄰,交通方便。場(chǎng)地?cái)M建一棟生產(chǎn)房及研發(fā)大樓,建筑總面積52507.0m2,生產(chǎn)房建筑總高度55.10m,地下一層,地上12層;研發(fā)大樓,建筑總高度45.60m,地下一層,地上11層(局部4層),擬建建筑均采用框剪結(jié)構(gòu),跨度組合為8.1×m8.2m,基坑面積6568m2,基坑深度6.10m,安全等級(jí)為三級(jí)。