工程概況：
該項目為地上21層，地下部分5層，框架剪力墻結(jié)構(gòu)，筏板基礎(chǔ)，基礎(chǔ)埋深為-21m（相對標(biāo)高），擬建建筑物南側(cè)與鼎好電子城地下室的北側(cè)相連。本工程施工包括基坑土方、護(hù)坡、降水。
降水方案設(shè)計：
1.設(shè)計原則
疏干上層滯水和層間潛水，利用水頭差將潛水導(dǎo)入降水井外排。
2.降水要求
基坑實際深度按照21m考慮。
槽底標(biāo)高低于場區(qū)內(nèi)兩層地下水的水位標(biāo)高，將水位降至槽底最深處0.5m以下，其中上層滯水和層間潛水需全部疏干，才能保證基坑的正常施工。
3.降水方案的選擇
（1）根據(jù)降水要求和地下水、地層分布及組成的特點，本工程采用管井井點圍降法，用管井降水井的深度控制降水范圍達(dá)到基坑降水目的，用管井降水井的密度阻止地下水流入基坑。